YAMASHITA山下電裝高倍率表面缺陷檢測(cè)設(shè)備YIS 系列的高倍率檢測(cè)設(shè)備可在螢?zāi)簧铣尸F(xiàn)一個(gè)10mm的視場(chǎng)。特別廣泛應(yīng)用于磊晶處理后的滑線檢查。同時(shí)也適用于硬碟或光學(xué)拋光元件。
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YAMASHITA山下電裝高倍率表面缺陷檢測(cè)設(shè)備
YAMASHITA山下電裝高倍率表面缺陷檢測(cè)設(shè)備
YIS 系列的高倍率檢測(cè)設(shè)備可在螢?zāi)簧铣尸F(xiàn)一個(gè)10mm的視場(chǎng)。
特別廣泛應(yīng)用于磊晶處理后的滑線檢查。同時(shí)也適用于硬碟或光學(xué)拋光元件。
檢測(cè)靈敏度約相當(dāng)于50倍的微分干涉像差顯微鏡。
即時(shí)顯示所有表面狀態(tài)。
光學(xué)系統(tǒng)對(duì)應(yīng)等級(jí)
光學(xué)系統(tǒng)無(wú)須維護(hù)。
根據(jù)檢測(cè)內(nèi)容,可修正檢測(cè)靈敏度。
檢測(cè)尺寸:從φ100mm至φ300mm
檢測(cè)內(nèi)容:平坦度、凹洞、凸起、刮痕、橘皮等
檢測(cè)倍率:1x / 3x 模式可切換(標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備)
檢測(cè)靈敏度:檢測(cè)靈敏度可連續(xù)調(diào)整
使用光源:550nm?。ü潭ㄕ斩戎€(wěn)定光源)
鏡頭:高解析度CCD鏡頭
平臺(tái):手動(dòng)平臺(tái)(標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備)
用途:
鏡面晶圓的表面檢測(cè)
滑線檢測(cè)
玻璃基板檢測(cè)
其他鏡面基板檢測(cè)
選配:
電動(dòng)馬達(dá)檢測(cè)平移臺(tái)
自動(dòng)判定缺陷影像處理裝置
影像列印機(jī)
搬運(yùn)裝置
有效照射面積 | 40mm正方 |
---|---|
照度 | 可自由切換1SUN (100mW/cm2), 0.8SUN, 0.6SUN, 0.4SUN, 0.2SUN, 0.1SUN |
照射時(shí)間 | 最短10msec,最長(zhǎng)可自由設(shè)定(照度0SUN到目標(biāo)照度的異動(dòng)時(shí)間在10msec以內(nèi)) |
設(shè)備性能 | 最短10msec,最長(zhǎng)可自由設(shè)定(照度0SUN到目標(biāo)照度的異動(dòng)時(shí)間在10msec以內(nèi)) |
減光時(shí)的性能 | 光譜匹配度、安定度保持在A等級(jí)內(nèi) |
由PC外部控制 | |
外部的遮光結(jié)構(gòu) |
太陽(yáng)光模擬測(cè)試儀的主要作用包括:
光催化研究:光催化太陽(yáng)光模擬器可以用于研究光催化劑的性能,例如其在特定光照條件下的反應(yīng)速度和效率。這些模擬器可以生成類似太陽(yáng)光的寬譜光源,從而使研究人員能夠在實(shí)驗(yàn)室條件下模擬真實(shí)世界的光催化反應(yīng)2。
光催化材料測(cè)試:光催化太陽(yáng)光模擬器也可用于評(píng)估新型光催化材料的性能。研究人員可以使用這些設(shè)備來(lái)測(cè)試材料在不同光照強(qiáng)度和光譜條件下的反應(yīng)性能2。
環(huán)境模擬:光催化太陽(yáng)光模擬器可以模擬不同時(shí)間的日光條件,包括日出、正午和日落。這使得研究人員可以在控制的環(huán)境中研究光催化過(guò)程在不同時(shí)段的行為2。
產(chǎn)品開發(fā)和驗(yàn)證:光催化太陽(yáng)光模擬器在開發(fā)新的光催化產(chǎn)品和技術(shù)時(shí)也很有用。研究人員可以使用模擬器來(lái)優(yōu)化設(shè)計(jì),然后測(cè)試和驗(yàn)證這些新產(chǎn)品在模擬太陽(yáng)光下的性能2。
測(cè)試太陽(yáng)能電池的評(píng)價(jià)指標(biāo):太陽(yáng)光模擬器是測(cè)試太陽(yáng)能電池的評(píng)價(jià)指標(biāo)短路電流ISC、開路電壓VOC、填充因子FF、光電轉(zhuǎn)化效率η的儀器1。
綜上所述,太陽(yáng)光模擬測(cè)試儀在科學(xué)研究、材料測(cè)試、產(chǎn)品開發(fā)等多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。